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澤攸科技等離子體增強化學氣相沉積系統產品(PECVD)介紹

日期:2023-04-19

澤攸科技完全自主研制等離子體增強化學氣相沉積系統(PECVD)及二維材料轉移臺。

產品介紹

等離子體增強化學氣相沉積系統(PECVD)及二維材料轉移臺

多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(CVD)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術,主要借助微波或射頻 的方法將目標氣體進行電離,促進化學反應在較低的溫度下進行,從而在基片上沉積出所期望的薄膜。 

目前項目團隊自主研發的CVD設備可在多種襯底上(如金屬、氧化物、半導體表面)直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維 材料,用于新材料、新器件的研發。工藝簡單廉價,且具有傳統半導體生長工藝的兼容性。

化學氣相沉積系統技術參數

場景案例

場景案例

場景案例

場景案例

場景案例

場景案例

場景案例

轉移系統

轉移臺

符合CE認證標準的二維材料轉移系統,可用于機械解理 的各種二維材料的轉移及二維材料范德華異質結的堆疊,尤其適用于二維材料的準確轉角調控。

轉移臺

樣品可以多方向多角度的相對移動,大氣環境下也可保 障二維異質結的界面干凈無氣泡;精巧的設計,全電動 控制,可提供真空環境,也可以輕松置于手套箱中操 作,適用于穩定性較差的二維磁性材料等研究。

轉移臺

技術參數

案例

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其他配件

高精度流量器

以上內容為安徽澤攸科技有限公司介紹。如果想要了解更多產品信息請您咨詢 


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作者:澤攸科技


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