無掩膜光刻技術在二維材料中的應用

二維材料是指具有原子級厚度（通常僅單層或幾層原子）且在兩個維度（平面方向）上延展，第三個維度（厚度方向）被限制在納米尺度的新型材料。

掃描電鏡中看到的亮和暗是什么意思？

在掃描電鏡（SEM）圖像中看到的“亮”和“暗”區域，代表的是電子信號強度的差異，而這種差異取決于多種因素，包括成像模式、材料性質、表面形貌和探測器方向。

在掃描電鏡（SEM）拍照時，是可以保存原圖像比例的，但是否真正保留了原始比例（即像素與實際尺寸的對應關系），取決于以下幾個因素：

在掃描電鏡（SEM）中，為了對比同一區域在不同放大倍數下的圖像細節差異，可以使用圖像處理軟件實現“多重圖層疊加”對比。

在掃描電鏡（SEM）中進行金屬噴鍍時，噴鍍層的厚度確實會影響圖像細節的呈現，尤其是高分辨率成像和觀察微小結構時。

在掃描電鏡中，不同材料顯示出不同亮度，主要是因為它們的原子序數、電子散射能力和導電性不同，導致探測器接收到的信號強弱差異。

在掃描電鏡（SEM）中定位同一位置進行多次觀察，是實現重復成像、前后對比、時間演化研究的重要操作。

掃描電鏡（SEM）中的工作距離（Working Distance，簡稱 WD）是指電子槍發出的電子束末端（物鏡極柱）到樣品表面的垂直距離。